Shaanxi Yunzhong Industry Development Co., Ltd
Obiettivi di polverizzazione per rivestimento

prezzo lastra in lega di zirconio al niobio di alta qualità Nb-Zr10%

Luogo di origine : Shaanxi, Cina (continente)
Marca : YUNCH
materiali Nb-Zr10%
dimensioni normali thickness≥10mm
dimensioni normali larghezza≤500mm
dimensioni normali length≤1500mm
Applicazione : elaborazione pvd industriale / coting / semiconduttore
vetro a bassa emissività, celle fotovoltaiche, dispositivo elettronico e decorazione
Forma : rotonda, piastra, tubo
Materiale : Titanio, Zr, Ni, Al, TiAl, Nb
Dimensioni : come personalizzate
Composizione chimica : metallo
polvere o no : non potere
Parola chiave : target di polverizzazione per il rivestimento del vuoto
Tecnica : forgia, macina, lucente
Colore : metallico
Purezza : 2N8-5N
Certificazione : ISO, EN10204 3.1, EN10204 3.2
Tipo : bersaglio sputtering, bersaglio tondo,
Tolleranza parziale : ± 0,05
Ra : 1,6-6,3
Ispezione : esame ultrasonico, test della pressione dell'acqua.

Products Specifications:


Nb-Zr.1.png

anb.png

Descrizione del prodotto

Nome dell'elemento

Nbzr planartargets

Forma

target planare / secondo la vostra richiesta

Dimensioni disponibili

1. & Oslash; 30--2000mm, spessore 3,0mm - 300mm

2. Targe: Larghezza: 200-500mm Larghezza: 100-230mm Spessore: 3--40mm

3. personalizzato è disponibile

certificati

ISO9001: 2008, SGS, il terzo rapporto di prova

tecniche

Forgiato e lavorato a CNC

Superficie

Superficie del tornio CNC.

Applicazione

1. Galvanotecnica;
2. Ingegneria chimica e tecnologia petrolchimica;
3. Medico

Nome del prodotto Nb Zirconio 10% target
Grado ZR702 / ZR705
Origine baoji city Shaanxi Province china
forma obiettivi di targa
Grado ZR702 / ZR705
Targa obiettivo 60/80/120 (W) e tempi; 6/8/12 (T) e tempi; 519/525/620 (L) e 60-800 (W) e tempi; 6-40 (T) e tempi; 600-2000 (L)
Applicazione

Separazione di semiconduttori, materiali di rivestimento di film, rivestimento di elettrodi di memorizzazione, rivestimento di polverizzazione, rivestimento superficiale, industria del rivestimento di vetro.


Obiettivo di alta polverizzazione del metallo puro

Alluminio

Al

bersaglio circolare, rotondo, planare, girevole

3N ~ 6N

Chronium

Cr

bersaglio circolare, rotondo, planare, ruotabile

2N ~ 3N5

Zirconio

Zr

bersaglio circolare, rotondo, planare, girevole

2N2 ~ 4N

Titanio

Ti

bersaglio circolare, rotondo, planare, ruotabile

4N ~ 5N

Molibdeno

momento

bersaglio circolare, rotondo, planare, ruotabile

3N ~ 4N

Niobio

Nb

bersaglio circolare, rotondo, planare, ruotabile

3N5

Tatalum

Ta

bersaglio circolare, rotondo, planare, ruotabile

4N5

Tungsteno

W

bersaglio circolare, rotondo, planare, ruotabile

3N5

Afnio

HF

bersaglio circolare, rotondo, planare, ruotabile

3N

Vanadio

V

bersaglio circolare, rotondo, planare, ruotabile

2N5 ~ 3N

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